天津平板玻璃工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施

日前，天津發(fā)布《平板玻璃工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》。標(biāo)準(zhǔn)于11月15日實(shí)施。玻璃窯爐顆粒物、二氧化硫、氮氧化物排放限制是10、50、200。詳情如下：

前 言

為貫徹《中華人民共和國環(huán)境保護(hù)法》《中華人民共和國大氣污染防治法》和《中華人民共和國土 壤污染防治法》等法律法規(guī)，保護(hù)生態(tài)環(huán)境，改善天津市環(huán)境空氣質(zhì)量，促進(jìn)平板玻璃工業(yè)生產(chǎn)工藝和 污染治理技術(shù)的進(jìn)步，制定本標(biāo)準(zhǔn)。

本標(biāo)準(zhǔn)由天津市生態(tài)環(huán)境局提出并歸口。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：天津市生態(tài)環(huán)境科學(xué)研究院。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草人：尹立峰、孫蕊、王浩、趙翌晨、溫娟、回蘊(yùn)珉、李敏姣、張雷波、閆平、常 文韜、宋兵魁、王蔭蔭、鄒迪、周廣琨、文亦青、王興、馮真真、閆佩、谷峰、張洪雷、常高峰。

本標(biāo)準(zhǔn)由天津市人民政府 2021年10月批準(zhǔn)。

平板玻璃工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)

1 適用范圍

本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了平板玻璃工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的大氣污染物排放控制要求，監(jiān)測和監(jiān)控要求， 達(dá)標(biāo)判定要求以及標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施與監(jiān)督等相關(guān)內(nèi)容。

本標(biāo)準(zhǔn)適用于現(xiàn)有、新建、改建及擴(kuò)建的平板玻璃工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施建設(shè)項(xiàng)目的環(huán)境影響 評價、環(huán)境保護(hù)工程設(shè)計、竣工環(huán)境保護(hù)驗(yàn)收、排污許可證核發(fā)及其投產(chǎn)后的大氣污染物排放管 理。

2 規(guī)范性引用文件

下列文件中的內(nèi)容通過文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本標(biāo)準(zhǔn)必不可少的條款。其中，注明日期的 引用文件，僅該日期對應(yīng)的版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的 修改單）適用于本標(biāo)準(zhǔn)。

GB/T 14669 空氣質(zhì)量 氨的測定 離子選擇電極法

GB/T 15432 環(huán)境空氣總懸浮顆粒物的測定 重量法

GB/T 16157 固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法

GB 26453-2011 平板玻璃工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)

HJ/T 27 固定污染源排氣中氯化氫的測定 硫氰酸汞分光光度法

HJ/T 42 固定污染源排氣中氮氧化物的測定 紫外分光光度法

HJ/T 43 固定污染源排氣中氮氧化物的測定 鹽酸萘乙二胺分光光度法

HJ/T 55 大氣污染物無組織排放監(jiān)測技術(shù)導(dǎo)則

HJ/T 56 固定污染源排氣中二氧化硫的測定 碘量法

HJ/T 57 固定污染源廢氣二氧化硫的測定 定電位電解法

HJ/T 65 大氣固定污染源 錫的測定 石墨爐原子吸收分光光度法

HJ/T 67 大氣固定污染源 氟化物的測定 離子選擇電極法

HJ 75 固定污染源煙氣（SO2、NOX、顆粒物）排放連續(xù)監(jiān)測技術(shù)規(guī)范

HJ 76 固定污染源煙氣（SO2、NOX、顆粒物）排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)技術(shù)要求及檢測方法

HJ/T 373 固定污染源監(jiān)測質(zhì)量保證與質(zhì)量控制技術(shù)規(guī)范（試行）

HJ/T 397 固定源廢氣監(jiān)測技術(shù)規(guī)范

HJ/T 398 固定污染源排放煙氣黑度的測定 林格曼煙氣黑度圖法

HJ 533 環(huán)境空氣和廢氣 氨的測定 納氏試劑分光光度法

HJ 534 環(huán)境空氣 氨的測定 次氯酸鈉-水楊酸分光光度法

HJ 548 固定污染源廢氣 氯化氫的測定 硝酸銀容量法

HJ 549 環(huán)境空氣和廢氣 氯化氫的測定 離子色譜法

HJ 629 固定污染源廢氣 二氧化硫的測定 非分散紅外吸收法

HJ 692 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 非分散紅外吸收法

HJ 693 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 定電位電解法

HJ 819 排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南 總則

HJ 988 排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南 平板玻璃工業(yè)

HJ 836 固定污染源廢氣 低濃度顆粒物的測定 重量法

HJ 1131 固定污染源廢氣 二氧化硫的測定 便攜式紫外吸收法

HJ 1132 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 便攜式紫外吸收法

污染源自動監(jiān)控管理辦法 國家環(huán)境保護(hù)總局令 第28號 環(huán)境監(jiān)測管理辦法 國家環(huán)境保護(hù)總局令 第39號

3 術(shù)語和定義

GB 26453界定的下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。為了便于使用，以下重復(fù)列出了GB 26453 中的某些術(shù)語和定義。

3.1 平板玻璃 flat glass

板狀的硅酸鹽玻璃。

[來源：GB 26453-2011，術(shù)語和定義3.1]

3.2 平板玻璃工業(yè) flat glass industry

采用浮法、壓延等工藝制造平板玻璃的工業(yè)。

[來源：GB 26453-2011，術(shù)語和定義3.2]

3.3 玻璃熔窯 glass furnace

熔制玻璃的熱工設(shè)備，由鋼架和耐火材料砌筑而成。

[來源：GB 26453-2011，術(shù)語和定義3.3]

3.4 純氧燃燒 oxygen-fuel combustion

助燃?xì)怏w含氧量大于等于90%的燃燒方式。

[來源：GB 26453-2011，術(shù)語和定義3.5]

3.5 大氣污染物排放濃度 emission concentration of air pollution

溫度273K，壓力101.3kPa狀態(tài)下，排氣筒干燥排氣中大氣污染物任何1h的濃度平均值，單位 為mg/m3

[來源：GB 26453-2011，術(shù)語和定義3.6]

3.6 排放筒高度 stack height 自排氣筒（或其主體建筑構(gòu)造）所在的地平面至排氣筒出口計的高度，單位為m。

[來源：GB 26453-2011，術(shù)語和定義3.7]

3.7 無組織排放 fugitive emission

 大氣污染物不經(jīng)過排氣筒的無規(guī)則排放，主要包括作業(yè)場所物料存放、開放式輸送揚(yáng)塵，以 及設(shè)備、管線含塵氣體泄漏等。

[來源：GB 26453-2011，術(shù)語和定義3.8]

3.8 無組織排放監(jiān)控點(diǎn)濃度限值 concentration limit at fugitive emission reference point

溫度273K，壓力101.3kPa狀況下，監(jiān)控點(diǎn)（根據(jù)HJ/T 55確定）的大氣污染物濃度在任何1h的 平均值不得超過的值，單位為 mg/m3 。

[來源：GB 26453-2011，術(shù)語和定義3.9]

3.9 現(xiàn)有企業(yè) existing facility 本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日前已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評價文件已通過審批的平板玻璃制造企業(yè)或生產(chǎn)設(shè) 施。

[來源：GB 26453-2011，術(shù)語和定義3.10]

3.10 新建企業(yè) new facility

自本標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日起環(huán)境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴(kuò)建平板玻璃工業(yè)建設(shè)項(xiàng) 目。

[來源：GB 26453-2011，術(shù)語和定義3.11]

4 有組織排放控制要求

4.1 新建企業(yè)自標(biāo)準(zhǔn)實(shí)施之日起，現(xiàn)有企業(yè)自 2022 年 10 月 1 日起，執(zhí)行表 1 規(guī)定的大氣污染 物排放限值。

編輯：李丹