北京：《電子工業(yè)大氣污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（征求意見(jiàn)稿）

時(shí)間：2018-06-22 14:36

來(lái)源：北京市環(huán)境局

——干煙氣基準(zhǔn)含氧量，%，取值為3；

——實(shí)測(cè)的干煙氣含氧量，%；

——實(shí)測(cè)大氣污染物排放濃度，mg/m3。

4.3無(wú)組織排放控制要求

4.3.1電子工業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中，企業(yè)邊界大氣污染物濃度執(zhí)行表3規(guī)定的限值。

4.4排氣筒高度要求

排氣筒高度應(yīng)按環(huán)境影響評(píng)價(jià)要求確定，且應(yīng)不低于15m。排氣筒排放氯氣、氰化氫兩種污染物中任一種或一種以上時(shí)，其高度不得低于25m。

4.5工藝措施和管理要求

4.5.1產(chǎn)生大氣污染物的生產(chǎn)工藝和裝置需設(shè)立局部或整體氣體收集系統(tǒng)和凈化處理裝置，達(dá)標(biāo)排放。

4.5.2當(dāng)執(zhí)行不同排放控制要求的廢氣合并排氣筒排放，且可選擇的監(jiān)控位置只能對(duì)混合后的廢氣進(jìn)行監(jiān)測(cè)時(shí)，應(yīng)執(zhí)行各排放控制要求中最嚴(yán)格的規(guī)定。

4.5.3其他工藝措施和管理要求見(jiàn)附錄A。

5監(jiān)測(cè)

5.1企業(yè)監(jiān)測(cè)要求

5.1.1企業(yè)應(yīng)按照有關(guān)法律法規(guī)要求，建立企業(yè)監(jiān)測(cè)制度，制定監(jiān)測(cè)方案，對(duì)污染物排放狀況及其對(duì)周邊環(huán)境質(zhì)量的影響開(kāi)展自行檢測(cè)，保存原始監(jiān)測(cè)記錄。

5.2排氣筒監(jiān)測(cè)

5.2.1按DB11/1195的規(guī)定設(shè)置廢氣采樣口和采樣平臺(tái)，并滿足GB/T16157、HJ/T397和DB11/T1484規(guī)定的采樣條件。

5.2.2排氣筒廢氣的采樣監(jiān)測(cè)應(yīng)按照GB/T16157、HJ/T397和HJ732的規(guī)定執(zhí)行。

5.2.3排污企業(yè)安裝污染物排放自動(dòng)監(jiān)控設(shè)備的要求，按《北京市固定污染源自動(dòng)監(jiān)控管理辦法》、HJ/T75中相關(guān)要求及其他相關(guān)法律法規(guī)執(zhí)行。

5.3無(wú)組織排放監(jiān)測(cè)

5.3.1廠界大氣污染物無(wú)組織排放監(jiān)測(cè)應(yīng)按HJ/T55的規(guī)定執(zhí)行。

5.3.2無(wú)組織排放監(jiān)控點(diǎn)位污染物濃度應(yīng)以任何連續(xù)1小時(shí)的采樣獲得平均值、或在任何1小時(shí)內(nèi)以等時(shí)間間隔采集3個(gè)以上樣品，計(jì)算平均值。

5.3.3對(duì)于設(shè)備與管線組件和敞開(kāi)液面，逸散排放的VOCs監(jiān)測(cè)采樣和測(cè)定方法按HJ733的規(guī)定執(zhí)行，采用氫火焰離子化檢測(cè)儀（以甲烷或丙烷為校正氣體，以碳計(jì)）監(jiān)測(cè)。

5.4大氣污染物濃度測(cè)定方法

大氣污染物濃度的分析測(cè)定應(yīng)按照表4規(guī)定的方法執(zhí)行。

6監(jiān)測(cè)工況要求

6.1對(duì)于建設(shè)項(xiàng)目環(huán)境保護(hù)設(shè)施竣工驗(yàn)收監(jiān)測(cè)或限期治理后的監(jiān)測(cè)，采樣期間的工況不應(yīng)低于設(shè)計(jì)工況的75%。對(duì)于監(jiān)督性監(jiān)測(cè)，不受工況和生產(chǎn)負(fù)荷限制。

6.2生產(chǎn)設(shè)施應(yīng)采用合理的通風(fēng)措施，不應(yīng)稀釋排放。在國(guó)家未規(guī)定單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排氣量之前，暫以實(shí)測(cè)濃度作為判定是否達(dá)標(biāo)的依據(jù)。

7監(jiān)督與實(shí)施

7.1本標(biāo)準(zhǔn)由市和區(qū)環(huán)境保護(hù)主管部門統(tǒng)一監(jiān)督實(shí)施。

7.2在任何情況下，電子工業(yè)企業(yè)均應(yīng)遵守本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的污染物排放要求，采取必要措施保證污染防治設(shè)施正常運(yùn)行。各級(jí)環(huán)保部門在對(duì)企業(yè)進(jìn)行監(jiān)督性檢查時(shí)，以現(xiàn)場(chǎng)即時(shí)采樣或監(jiān)測(cè)的結(jié)果作為判定排污行為是否符合排放標(biāo)準(zhǔn)以及實(shí)施相關(guān)環(huán)境保護(hù)管理措施的依據(jù)。

附錄A

（規(guī)范性附錄）

工藝措施和管理要求

A.1VOCs物料的儲(chǔ)存、轉(zhuǎn)移和輸送

A.1.1VOCs物料應(yīng)儲(chǔ)存于密閉儲(chǔ)罐或密閉容器中。盛裝VOCs物料的容器應(yīng)存放于儲(chǔ)存室內(nèi)，或存放于設(shè)置有雨棚的專用場(chǎng)地。

A.1.2VOCs物料采用密閉管道輸送。采用非管道輸送方式轉(zhuǎn)移VOCs物料時(shí)，應(yīng)采用密閉容器。

A.1.3盛裝VOCs物料的容器在非取用狀態(tài)時(shí)應(yīng)加蓋保持密閉。

A.2含VOCs產(chǎn)品的使用過(guò)程控制

A.2.1含VOCs產(chǎn)品的使用過(guò)程應(yīng)密閉設(shè)備，或在密閉空間內(nèi)進(jìn)行，廢氣排至VOCs廢氣收集處理系統(tǒng)。不能密閉的，應(yīng)采取局部氣體收集處理措施。含VOCs產(chǎn)品的使用過(guò)程包括但不局限于以下作業(yè)：

a)有機(jī)載體制備、溶劑復(fù)配、配膠等；

b)上（點(diǎn)）膠、涂漆、噴涂、涂覆、印刷等；

c)光刻、顯影、刻蝕、擴(kuò)散等；

d)研磨、清洗、烘干等。

A.2.2企業(yè)應(yīng)記錄含VOCs原料、輔料和產(chǎn)品的名稱、使用量、回收量、廢棄量、去向以及VOCs含量。記錄保存期限不得少于三年。

A.3設(shè)備與管線組件泄漏

A.3.1應(yīng)對(duì)泵、壓縮機(jī)、閥門、法蘭及其他連接件等密封點(diǎn)進(jìn)行泄漏檢測(cè)，對(duì)泄漏檢測(cè)值（扣除環(huán)境本底值后的凈值）大于等于2000μmol/mol的泄漏點(diǎn)以及目視滴液的滴漏點(diǎn)進(jìn)行標(biāo)識(shí)并在15日內(nèi)修復(fù)。

A.3.2企業(yè)應(yīng)建立泄漏檢測(cè)與修復(fù)制度，每季度對(duì)泵、壓縮機(jī)、閥門、法蘭及其他連接件等動(dòng)靜密封點(diǎn)進(jìn)行泄漏檢測(cè)，建立臺(tái)帳，記錄檢測(cè)時(shí)間、檢測(cè)儀器讀數(shù)、修復(fù)時(shí)間、修復(fù)后檢測(cè)儀器讀數(shù)等信息。

A.3.3采用無(wú)泄漏型式的設(shè)備或管線組件，免于泄漏檢測(cè)。

A.4揮發(fā)性有機(jī)液體儲(chǔ)罐與裝載設(shè)施

A.4.1對(duì)于儲(chǔ)存物料的真實(shí)蒸氣壓大于等于5.2kPa、容積大于等于75m3的有機(jī)液體儲(chǔ)罐，應(yīng)符合以下規(guī)定之一：

a)采用液體鑲嵌式密封、機(jī)械式鞋形密封、雙封式密封等高效密封方式的浮頂罐；

a)采用固定頂罐，應(yīng)安裝密閉排氣系統(tǒng)，排氣至VOCs廢氣收集處理系統(tǒng)；

a)采取氣相平衡系統(tǒng)等其他等效措施。

A.4.2對(duì)于真實(shí)蒸氣壓大于等于5.2kPa的裝載物料，且單一裝載設(shè)施的年裝載總?cè)莘e超過(guò)2500m3；或裝載物料真實(shí)蒸氣壓≥27.6kPa，且單一裝載設(shè)施的年裝載總?cè)莘e超過(guò)500m3，其裝載設(shè)施應(yīng)配備廢氣收集系統(tǒng)，并排氣至VOCs廢氣收集處理系統(tǒng)或采取氣相平衡系統(tǒng)。

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編輯：張偉

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